[文章導讀] 硅晶片、芯片和高性能半導體是靈敏性極高的電子元件。隨著這些技術的發展，低壓等離子清洗機技術作為一種制造工藝也隨之發展。

硅晶片、芯片和高性能半導體是靈敏性極高的電子元件。隨著這些技術的發展，低壓等離子清洗機技術作為一種制造工藝也隨之發展。

大氣壓條件下的等離子清洗機工藝的發展開辟了全新的應用潛力，尤其是對于全自動化生產這一趨勢。由于等離子清洗機（點 擊了解詳情）不再需要真空，因此可以大大簡化工藝流程。

等離子清洗機系統的更多優點：

· 超精細清洗（元件清洗）不會損傷敏感結構

· 對表面進行選擇性地功能化處理以便進行后續的加工

· 精益的工藝布局，顯著的成本節約

· 粘接工藝中的不良率降低

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